大华股份申请曝光参数生成方法专利，实现准确高效的曝光控制
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2024-04-05 14:42:54
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金融界2024年4月5日消息，据国家知识产权局公告，浙江大华技术股份有限公司申请一项名为“曝光参数生成方法、装置、目标检测系统和电子装置“，公开号CN117835072A，申请日期为2023年11月。
专利摘要显示，本申请涉及一种曝光参数生成方法、装置、目标检测系统和电子装置，其中，该曝光参数生成方法包括：获取拍摄对象的物理位置信息；基于物理位置信息确定镜头的拍摄位姿，在拍摄位姿下对拍摄对象进行跟踪识别，得到拍摄对象的多帧检测图像的图像识别结果；基于物理位置信息、图像识别结果以及镜头的焦距，确定拍摄对象在多帧检测图像间的实际移动面积和实际移动速度；根据实际移动面积和实际移动速度，生成与拍摄对象匹配的曝光参数。其能够基于拍摄对象的实际移动面积和实际移动速度，确定与拍摄对象匹配的曝光参数，进而能够针对不同拍摄对象准确调整相应的曝光参数，实现准确高效的曝光控制，从而能够同时兼顾噪声拖影问题和运动拖影问题。
来源：金融界
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